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影響磁控濺射鍍膜結果的因素
1、濺射功率的影響，在基體和涂層材料確定的情況下，工藝參數的選擇對于涂層生長速率和涂層質量都有很大的影響.其中濺射功率的設定對這兩方面都有極大的影響.
2、氣壓的影響,磁控濺射是在低氣壓下進行高速濺射,為此需要提高氣體的離化率,使氣體形成等離子體.在保證濺射功率固定的情況下,分析氣壓對于磁控濺射的影響.
磁控濺射鍍膜的產品優點
1、幾乎所有材料都可以通過磁控濺射沉積，而不論其熔化溫度如何;2、可以根據基材和涂層的要求縮放光源并將其放置在腔室中的任何位置;3、可以沉積合金和化合物的薄膜，同時保持與原始材料相似的組成.
磁控濺射鍍膜的產品特點
1、磁控濺射所利用的環狀磁場迫使二次電子跳欄式地沿著環狀磁場轉圈.相應地,環狀磁場控制的區域是等離子體密度最高的部位.在磁控濺射時,可以看見濺射氣體——氬氣在這部位發出強烈的淡藍色輝光,形成一個光環.處于光環下的靶材是被離子轟擊最嚴重的部位,會濺射出一條環狀的溝槽.環狀磁場是電子運動的軌道,環狀的輝光和溝槽將其形象地表現了出來.磁控濺射靶的濺射溝槽一旦穿透靶材,就會導致整塊靶材報廢,所以靶材的利用率不高,一般低于40%;2、等離子體不穩定;
3、不能實現強磁性材料的低溫高速濺射,因為幾乎所有的磁通都通不過磁性靶子,所以在靶面附近不能加外加強磁場.
磁控濺射鍍膜的適用范圍
1、建材及民用工業中
2、在鋁合金制品裝飾中的應用
3、高檔產品零/部件表面的裝飾鍍中的應用
4、在不銹鋼刀片涂層技術中的應用
5、在玻璃深加工產業中的應用
磁控濺射鍍膜注意事項
1、輻射:有些鍍膜要用到射頻電源,如功率大,需做好屏蔽處理.另外,歐洲標準在單室鍍膜機門框四周嵌裝金屬線屏蔽輻射;2、金屬污染:鍍膜材料有些(如鉻、銦、鋁)是對人體有害的,特別要注意真空室清理過程中出現的粉塵污染;3、噪音污染:如特別是一些大的鍍膜設備,機械真空泵噪音很大,可以把泵隔離在墻外;4、光污染:離子鍍膜過程中,氣體電離發出強光,不宜透過觀察窗久看.
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